Masks to Cropped Layers II 是一个适用于具有多个蒙版的图层的实用工具。

这个工具有助于对矢量图形进行动画处理，并提高视觉特效合成的性能。它适用于具有多个蒙版的图层，例如从 Illustrator 粘贴图稿时，或者在 Mocha 中跟踪区域时。 每个蒙版都会复制到新的实体（用于动画）或用于创建预合成。每个新层都会被裁剪为蒙版的大小，为动画提供灵活性，同时显着提高性能。

• Masks to Cropped Layers II 的蒙版现在允许您使用基本矩形（快速）或贝塞尔路径（较慢但像素精确）来计算蒙版尺寸。
• 您可以根据单个帧、合成工作区域或图层的持续时间来计算蒙版大小。
• 如果未选择任何蒙版，则将使用图层上的所有蒙版。如果您手动选择一些蒙版，则只有它们用于创建新图层。
• 脚本面板包括两个按钮，用于快速选择所有打开或所有关闭的蒙版。
• 新图层的大小可以填充，并且位置值可以四舍五入为整数以获得更清晰的结果。

v2.1更新内容：更新了 v22 和 Monterey Mac 的兼容性。脚本的功能没有变化。

脚本支持Win/Mac系统：AE 2022, 2021, 2020, CC 2019, CC 2018, CC 2017,CC 2015, CC 2014, CC, CS6