使用BAO Mask Avenger可在After Effects 中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点，可在三维空间做路径动画。

版本 2 中的新增功能

• Ram 预览保护。之前版本的最大问题是 Ram 预览被插件无效。Mask Avenger 2.0 的新烘焙系统避免了这个问题。
• 3D 蒙版。Mask Avenger 现在可以控制 3D 中的蒙版，而无需使用空层和表达式。蒙版计算速度更快，表达式编写也更简单。
• 后台烘焙。当需要修改蒙版时，Mask Avenger 会在当前时间立即对其进行转换，并在后台烘焙其余工作区域。这意味着您可以在 Mask Avenger 忙于烘焙时继续工作。这取代了“动态”和“烘焙”模式。
• 更好的形状层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新烘焙系统的出现而消失。
• 工作区域和图层持续时间不再影响 Mask Avenger 的计算速度。当然，烘焙 100,000 个关键帧比烘焙 10 个关键帧花费的时间更长，但新的烘焙系统允许您在烘焙时继续工作。
• 不再需要 Mask Renderer。Mask Avenger 现在使用 AE 自己的遮罩功能，并且运行速度更快。
• 蒙版预览。Mask Avenger 2.0 具有预览系统，可在将更改应用于蒙版之前动态显示更改。这可避免蒙版被表情、其他图层或相机修改时出现延迟。

单独控制每个遮罩顶点

• 关键帧、缓动、表情和 3D 空间。
• 您可以选择仅处理顶点，也可以完全控制切线。
• 集成脚本将帮助您表达并将掩码点链接到空层。
• 通过简单的 pick-whip 表达式将蒙版顶点链接到跟踪点。
• 使用“冻结”模式与没有 Mask Avenger 的用户分享您的项目。
• 智能插值模式：基于重心的体积守恒，或独立的关键帧锚点。
• 与“自由变换”蒙版工具集成。
• 遮罩读取器：读取蒙版路径上任意点的位置和方向数据。
• Shape Avenger：应用蒙版 Avenger来塑造图层。
• Mask Avenger 是一个原生的 After Effects 插件。

插件支持Win/Mac系统：After Effects 2024, 2023, 2022, 2021, 2020, CC 2019, CC 2018, CC 2017, CC 2015.3, CC 2015, CC 2014, CC, CS6

v2.7.5更新内容：修复了 M芯片兼容性问题（Mac）